삼성, 2030년까지 시스템반도체에 133조 투자·1만5천명 채용
삼성, 2030년까지 시스템반도체에 133조 투자·1만5천명 채용
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‘반도체 비전 2030’ 발표, R&D에 73조-최첨단 생산 인프라 60조 투자키로
삼성전자가 오는 2030년까지 시스템반도체 분야의 연구개발(R&D) 및 생산기술 확충에 총 133조원을 투자하고, 전문인력 1만5천명을 채용하기로 했다고 24일 밝혔다. 메모리 반도체뿐만 아니라 시스템반도체를 비롯한 비(非)메모리 사업에서도 글로벌 1위를 달성하겠다는 청사진이다. 사진은 삼성전자 클린룸 전경. 삼성전자 제공=연합뉴스
삼성전자가 오는 2030년까지 시스템반도체 분야의 연구개발(R&D) 및 생산기술 확충에 총 133조원을 투자하고, 전문인력 1만5천명을 채용하기로 했다고 24일 밝혔다. 메모리 반도체뿐만 아니라 시스템반도체를 비롯한 비(非)메모리 사업에서도 글로벌 1위를 달성하겠다는 청사진이다. 사진은 삼성전자 클린룸 전경. 삼성전자 제공=연합뉴스

삼성전자가 오는 2030년까지 시스템 반도체 분야의 연구개발(R&D) 및 생산기술 확충에 총 133조 원을 투자하고, 전문인력 1만 5천 명을 채용하기로 했다.

메모리 반도체뿐만 아니라 시스템 반도체를 비롯한 비(非)메모리 사업에서도 글로벌 1위를 달성하겠다는 청사진이다.

특히 국내 중소 반도체 업체들과의 상생 협력을 통해 산업 생태계를 강화함으로써 ‘신성장동력 발굴’과 ‘동반성장’을 동시에 추진한다는 방침이다.

삼성전자는 24일 이러한 내용을 담은 ‘반도체 비전 2030’을 발표했다.

우선, 시스템 반도체 사업경쟁력 강화를 위해 오는 2030년까지 R&D 분야에 73조 원, 최첨단 생산 인프라에 60조 원을 각각 투자하기로 했다.

대규모 R&D 투자를 통해 국내 시스템 반도체 연구 인력 양성에 기여하는 동시에 시설 확충을 통해 국내 설비ㆍ소재 업체를 포함한 시스템 반도체 생태계 전반의 발전에 기여한다는 것이다.

이와 관련, 향후 화성캠퍼스의 신규 EUV(극자외선) 생산라인을 활용해 생산량을 늘리는 한편 신규 라인 투자도 계속 진행하기로 했다.

이와 함께 기술경쟁력 강화를 위해 시스템 반도체 R&D 제조 전문인력 1만 5천 명을 채용할 계획이라고 밝혔다.

이런 계획이 실행되면 오는 2030년까지 연평균 11조 원의 R&D·시설 투자가 집행되고, 생산량이 늘어남에 따라 42만 명에 달하는 간접 고용유발 효과가 발생할 것으로 회사 측은 기대했다.

이밖에 삼성전자는 국내 팹리스(반도체 설계 전문업체)를 지원하는 등 상생협력을 통해 국가 차원의 시스템 반도체 산업 생태계 구축을 선도한다는 전략도 함께 내놨다.

국내 중소 팹리스 고객들이 제품 경쟁력을 강화하고 제품 개발 기간도 단축할 수 있도록 인터페이스 IP, 아날로그 IP, 시큐리티 IP 등 설계 관련 지식재산권(IP)을 지원할 예정이다. 또 효과적인 제품 개발을 위해 자체 개발한 설계 및 불량 분석 툴과 소프트웨어 등도 지원하기로 했다.

삼성전자의 이번 계획은 올 들어 정부가 꾸준히 강조하고 있는 신성장동력 확보 차원의 비메모리 산업 육성과 궤를 같이한다는 게 업계의 평가다.

업계 관계자는 “삼성전자는 지난 2013년 이른바 ‘비전 2020’을 통해 오는 2020년까지 세계 전자업계 1위로 도약하겠다는 목표를 제시한 바 있다”며 “이번 ‘반도체 비전 2030’은 주력 사업인 반도체를 중심으로 하는 중장기 청사진으로 예상된다”고 말했다.

권혁준기자


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