삼성전자, 반도체 격차 더 벌린다… 평택 최대 공장 건설 본격화

삼성전자가 평택캠퍼스의 세 번째 반도체 생산 라인인 ‘P3’ 공장을 이르면 다음 달 착공, 글로벌 메모리 반도체 ‘초격차’ 유지를 위한 선제 투자를 지속한다.

10일 평택시와 삼성전자에 따르면 평택캠퍼스 반도체 제3 생산라인(P3)의 건물 착공이 이르면 9월부터 시작된다. 삼성전자는 앞서 지난 6월 평택시로부터 1차로 P3 공장의 1층 건설에 대한 건축허가를 받아 현재 부지 정지작업 등 기초 토목공사를 진행 중이다. 건축법상으로 실제 착공에 들어간 것이지만 삼성전자는 자체적으로 건물을 올리는 시점부터 본격 착공으로 인지한다.

P3 공장의 건축허가 면적은 70만㎡ 규모로, 통상 2개 층으로 건설되는 반도체 생산 라인과 5층 이상의 사무실 등 부속 동을 합친 것이다. 반도체 공장 건설과 설비 반입, 생산까지 3∼4년가량이 소요되는 것을 감안하면 P3 라인의 양산 가능 시기는 2023년 하반기가 될 전망이다.

P3 라인의 투자금액은 평택캠퍼스 단일 라인 가운데 최대 규모가 될 전망이다. P3보다 규모가 작은 P2 라인의 투자금액이 30조원에 달하는 것을 고려할 때 30조원을 훌쩍 뛰어넘을 것으로 보인다.

삼성전자가 반도체 라인 증설을 서두르는 것은 경쟁사와의 초격차 유지를 위해 과감한 선제 투자를 하는 것으로, 이는 이재용 부회장의 경영철학에 따른 것이다.

삼성전자는 코로나19로 인한 ‘언택트(untact·비대면)’ 라이프 스타일 확산으로 반도체 수요가 계속해서 늘어날 것으로 보고 있다. 이에 2030년 비메모리 반도체 부문에서도 세계 1위에 오르겠다는 목표를 세우고 파운드리 부문도 투자를 확대하고 있다.

아울러 삼성전자는 평택캠퍼스의 나머지 라인 신축도 서두르고 있다. 삼성전자는 P4∼6 라인 건설에 대비해 평택시에 공업용수를 추가로 확보해 달라고 요청한 상태다.

평택시 관계자는 “용수 확보에는 시간이 걸리기 때문에 미래의 건축 계획에 대비해 삼성전자가 미리 용수 확보를 요청한 것”이라며 “P4, 5, 6라인 건설도 연차계획에 따라 차근차근 진행될 것으로 안다”고 말했다.

최해영·홍완식기자